GGG ガドリニウム・ガリウム・ガーネット/SGGG 置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット

GGG(ガドリニウム・ガリウム・ガーネット)およびSGGG(置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット)は、磁気光学エピタキシャル膜用基板として広く用いられる単結晶材料です。これらの基板は、YIG(イットリウム鉄ガーネット)やBIG(ビスマス置換鉄ガーネット)などの磁気光学材料との優れた格子整合性を有し、高品質なエピタキシャル成長を可能にします。特にSGGGは、GGGに比べて格子定数が大きく、Bi系ガーネットとの格子整合性に優れているため、高性能な磁気光学デバイス用途において広く採用されています。

特徴

用途

材料概要

項目 GGG SGGG
材料名 GGG SGGG
化学式 Gd3Ga5O12 Substituted Gd3Ga5O12
結晶構造 立方晶系 立方晶系
結晶成長法 CZ CZ

物性仕様

項目 GGG SGGG
格子定数 12.383 Å 12.497 Å
モース硬度 8 7.5
密度 7.13 g/cm3 7.09 g/cm3
融点 1725 ℃ 1730 ℃
屈折率(@1064 nm) 1.954 1.954

GGG/SGGG基板仕様

項目 3インチ 4インチ
材料 GGG/SGGG
結晶成長法 CZ
直径 (mm) 76.20 ± 0.3 101.60 ± 0.3
厚さ (μm) 630 ± 30 800 ± 30 またはカスタム対応可
結晶方位 (111) ± 0.1°
格子定数 12.497 ± 0.003 Å
オリエンテーションフラット 主フラット [-110] ± 2°
副フラット [-1-12] ± 2°
表面品質 平坦度 有効面積の80%中央領域において、Max–Min ≤ 6 µm
TTV 有効面積の80%中央領域において、Max–Min ≤ 6 µm
転位密度 有効面積の80%中央領域において、≤ 10 cm-2
面仕上げ 片面研磨 / 両面研磨
表面粗さ Ra ≤1 nm,EPI ready
その他欠陥(エピ面) 欠陥数 有効面積の80%中央領域において、≤ 10