ガリウムアルセニド(GaAs)基板

砒素化ガリウム(化学式:GaAs)は、ガリウムと砒素の2つの元素から合成される化合物です。これは、III族およびV族の複合半導体材料として重要です。

ガリウムアルセニド(GaAs)基板
豊港化学は、VGF法で作製されたサイズが最大6インチの砷化ガリウム結晶片を提供できます。これには、半絶縁砷化ガリウム結晶片(無添加)および半導体砷化ガリウム結晶片(シリコン添加、亜鉛添加)が含まれます。
応用と分野
砷化ガリウム(GaAs)は、優れた性能を持つ半導体材料であり、直接バンドギャップ、高い電子移動率、高周波低ノイズ、高変換効率などの特徴があります。
砷化ガリウム基板を使用して製造されたRFデバイスは、無線通信分野で広く使用されており、無線LAN(WLAN)、携帯電話通信、4G / 5G基地局、衛星通信、Wi-Fi通信などが含まれます。
ミニLEDやマイクロLEDの開発に伴い、砷化ガリウム基板で製造された赤色LEDは、ディスプレイ画面分野やAR / VR分野でもますます多くの用途が見込まれます。

砷化ガリウムをベースにした高効率の太陽電池パネルは、高い変換効率を持っています。現在、ドローンや太陽光発電自動車分野などで広く使用されています。

砷化ガリウムの用途は、光ファイバー通信、無線LAN(WLAN)、携帯電話、Bluetooth通信、衛星通信、5G用の単片マイクロ波集積回路(MMIC)およびRF集積回路(RFIC)などの業界で使用される各種トランジスタを含んでいます。

豊港化学の豊富な経験、先進的な生産技術、そして厳格な品質管理システムを活用して、基板の優れた品質を確保します。

プロジェクト 単位 LD適用製品仕様 LED適用製品仕様 マイクロエレクトロニクス製品仕様
導電タイプ N型 P型/N型
結晶成長方法 垂直温度勾配固化法 垂直温度勾配固化法 垂直温度勾配固化法
ドーパント シリコン 亜鉛/シリコン 無ドープ
直径 inch 2",3",4" and 6" 2",3",4" and 6" 2",3",4" and 6"
主要基準面/副基準面 US or EJ US or EJ US, EJ or notch
キャリア濃度 /cm3 (0.4-2.5)×1018 (0.5-5)×1019
(0.4-4)×1018
常温での抵抗率 ohm.cm (1.2-9.9)×10-3 (1.2-9.9)×10-3 >107
電子移動度 cm2/v.s >1500 50-120/>1000 >4000
エッチピット密度(EPD) /cm2 <500 <5000 <5000
厚さ* μm (350-650)±25 (350-650)±25 (350-650)±25
TTV(P/P) μm ≤5 ≤5 ≤4
TTV(P/E) μm ≤10 ≤10 ≤10
Warp μm ≤10 ≤10 ≤10
表面 主面
背面
磨かれた
磨かれた/エッチング
磨かれた
磨かれた/エッチング
磨かれた
磨かれた/エッチング
エピレディ Yes Yes Yes
梱包方法 カセットまたはシングルウェーハコンテナ カセットまたはシングルウェーハコンテナ カセットまたはシングルウェーハコンテナ